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發(fā)表時間：2021-05-05 17:08:22瀏覽量：5733【小中大】
主要由高純度氧化鋁組成，特別適用于高硬度物質(zhì)和半導體材料的拋光，例如藍寶石、硒化鋅。具有良好的分散性和穩(wěn)定性，去除率高、表面粗糙度小，以及對工件無損傷，易清洗等優(yōu)點。
主要特征
高去除率，利用氧化鋁本身高硬度，可做大粒徑來達到較大移除量;
粒度范圍廣，目前最小可做到30nm，最大可做到幾十甚至上百微米;
可選擇性多，可根據(jù)客戶需求，制成水性，油性，蠟狀，膏狀等;
具備良好的分散懸浮性、質(zhì)量穩(wěn)定、拋光壽命長;
優(yōu)質(zhì)的拋光表面、無桔皮、麻點、劃傷等缺陷；
易清洗，不易板結。
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型號 |
外觀 |
PH值 |
固含量 % |
粒徑 μm |
包裝（㎏） |
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MMP037 |
乳白色液體 |
堿性 |
20 |
0.2-0.5 |
5/25 |
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MMP038 |
乳白色液體 |
堿性 |
20-30 |
0.1-0.2 |
5/25 |
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MMP099 |
乳白色液體 |
堿性 |
20 |
<0.1 |
5/25 |
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MMP103 |
乳白色液體 |
酸性 |
10-30 |
>1 |
5/25 |
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MMP-S300 |
乳白色液體 |
酸性 |
10-20 |
2-3 |
5/25 |
包裝規(guī)格
5KG/25KG，桶裝（可根據(jù)客戶需求定制）。
儲存方式
存放溫度為5℃-35℃，避免陽光照射。
該產(chǎn)品采用進口聚晶氧化鋁微粉為主要原料，氧化鋁粒徑分布均
勻，懸浮體系穩(wěn)定，分散性好，不易板結。該產(chǎn)品的液相添加了高錳
酸鉀，利用高錳酸鉀的強氧化性，對SiC片表面進行腐蝕，再通過氧
化鋁的機械作用來達到對SiC片的高去除率拋光。
該產(chǎn)品使用簡便，拋光件表面易清洗，在拋光機以及拋光墊上無沉
積，配合無紡布粗拋墊使用可以達到極低的表面粗糙度及極低的表
面損傷。
