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發(fā)表時(shí)間：2021-09-24 16:45:14瀏覽量：5776【小中大】
氧化硅拋光液系列，采用高純度膠態(tài)氧化硅微?；蚋呒兌裙璺鬯瞥傻囊环N高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品，可避免加工元件產(chǎn)生刮傷的現(xiàn)象，用于多種材料納米級的高平坦化拋光，如：砷化鎵、鍺片、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、單晶硅、多晶硅、鈮酸鋰、碳酸鋰、硫系紅外玻璃珠中拋或精拋。
主要特征
根據(jù)不同需要，可生產(chǎn)不同粒度的產(chǎn)品（10-150 nm）拋光液，
主要用于產(chǎn)品的精拋，產(chǎn)品穩(wěn)定，拋光速率快，表面效果好，易清洗等，不會(huì)對加工件造成物理損傷，達(dá)到高平坦化加工
粒度分布
型號
粒徑 (nm)
固含量(%)
PH值
比重
密度(g/ml)
MMP-40A
40
40
9-11
1.3
1.15±0.05
MMP-60S
60
40
9-11
1.3
1.15±0.05
MMP-S80A
80
40
9-11
1.3
1.15±0.05
MMP-100A
100
40-50
10-13
1.5
1.20±0.05
MMP-1209
120
40-50
10-13
1.5
1.20±0.05
MMP-1509
150
40-50
10-13
1.5
1.20±0.05
應(yīng)用場景
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應(yīng)用 |
型號 |
描述 |
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藍(lán)寶石精拋液 |
MMP-1209 |
藍(lán)寶石系列拋光液主要由各種高級化學(xué)品和高純度膠態(tài)二氧化硅組成，特別適用于氧化鋯陶瓷、藍(lán)寶石材料的拋光（包括A\C向、單拋、雙拋、藍(lán)寶石表鏡專用拋光液和異形拋光液）。具有良好的穩(wěn)定性和分散性，去除率高、表面效果好以及對工件無損傷等優(yōu)點(diǎn)。稀釋比例高，使用周期長等特點(diǎn)。 |
|
碳化硅精拋液 |
MMP-1009 |
碳化硅拋光液主要由高純度二氧化硅制備而成，具有高度分散性、良好拋光效率,去除量高，表面效果好，易清洗，滿足客戶需求。 |
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陶瓷精拋液 |
MMP-100A |
用于陶瓷手機(jī)后殼以及替他陶瓷材質(zhì)的精拋，具有去除量高，循環(huán)壽命長，拋光性能穩(wěn)定，拋光表面質(zhì)量好與易清洗等特點(diǎn)。 |
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鋁合金精拋液 |
MMP-120A |
該拋光液主要用于手機(jī)中框以及鋁合金材質(zhì)的精拋，拋光后的表面無橘皮、劃傷、坑點(diǎn)等缺陷，液體易清洗，不易結(jié)晶；客戶根據(jù)不同的工藝進(jìn)行不同的調(diào)整。 |
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不銹鋼精拋液 |
MMP-60S |
該拋光液主要用于蘋果LOGO、攝像頭以及其他不銹鋼材質(zhì)的精拋，拋光后的表面無橘皮、劃傷、坑點(diǎn)等缺陷，客戶根據(jù)不同的工藝進(jìn)行不同的調(diào)整。 |
應(yīng)用領(lǐng)域
硅晶圓片拋光；鍺片拋光；砷化鎵拋光；磷化銦拋光；光學(xué)晶體拋光；藍(lán)寶石襯底拋光；碳化硅襯底拋光； 硒化鋅拋光；光纖連接器拋光；光纖跳線拋光；玻璃拋光；石英拋光；
包裝規(guī)格
25KG/桶 5KG/25KG，桶裝（可根據(jù)客戶需求定制）
儲(chǔ)存方式
存放溫度為5°C~45°C，常規(guī)溫度25°C，避免陽光照射。
稀釋比例
稀釋需要去離子或蒸餾水，建議稀釋比例1:1~1:5。
